'초임계 반도체 세정장비' 기술 중국에 유출한 일당 징역형

산업통상자원부가 국가핵심기술로 지정한 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 해외 유출한 전직 연구원들이 등이 징역형을 선고받았다.

수원지법 형사15부(부장판사 이정재)는 11일 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 구속기소된 세메스 전 연구원 A씨에게 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했다.

▲수원법원종합청사. ⓒ수원지법

또 함께 기소된 기술 유출 브로커 B씨와 세메스 협력사 대표 C씨 등 4명에게 각각 징역 2∼4년을 선고하고, 벌금 300만원∼3억 원을 내라고 판결했다. 다만 범행을 자백하고 수사에 협조한 직원 D씨에 대해서는 징역형의 집행유예를 선고했다.

이와 함께 A씨가 세메스 퇴직 이후 설립한 반도체 장비제조업체 법인에도 벌금 10억 원을 선고했다.

A씨는 2016년 세메스에서 퇴직하고 2019년 다른 회사를 설립한 뒤, 세메스가 2021년 6월 세계 최초로 개발한 초임계 반도체 세정장비의 핵심 도면을 부정 취득해 B씨를 통해 중국에 유출한 혐의를 받는다.

C씨는 A씨에게 초임계 도면을 넘겨주는 대가로 38억 원 투자금을 받은 것으로 조사됐다.

초임계 세정 장비는 초임계 상태의 이산화탄소로 반도체 기판을 세정해 기판 손상을 최소화하는 차세대 설비로, 산업통상자원부가 국가핵심기술로 지정한 기술이다.

A씨는 지난해 9월 중국의 한 반도체 업체에 초임계 세정장비 10대를 납품한 뒤 기술을 이전하기로 협약했으나, 검찰 수사로 인해 실제 장비 납품은 이뤄지지 않았다.

또 A씨는 함께 구속 기소된 세메스 전 연구원 D씨 등과 공모해 2021년 5∼7월 세메스가 일본에 이어 세계 2번째로 개발한 '매엽식 인산 세정장비 기술'에 대한 정보를 자신이 운영하는 회사 내부 직원들에게 누설한 혐의도 있다.

인산 세정장비는 인산 약액으로 반도체 웨이퍼를 1개씩 세정하는 장비다.

뿐만 아니라 A씨는 지난해 5월 세메스가 개발한 습식 반도체 세정 장비(반도체 기판에 패턴을 조각하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하는 장비) 기술을 유출한 혐의로 올해 2월 1심에서 징역 4년을 선고받았으며, 현재 항소심을 진행 중이다.

재판부는 "피고인의 범행은 반도체 세정장비 기술 연구 개발을 위해 다년간 연구하고 투자한 막대한 시간과 비용을 헛되게 해 큰 악영향을 미친 중대한 범죄"라며 "이를 가볍게 처벌한다면 기업 입장에서는 기술 개발에 매진할 동기가 없어지고 해외 경쟁업체가 국내 기술력을 손쉽게 탈취하는 것을 방치하는 결과를 낳을 것"이라고 선고 이유를 설명했다.